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【337调查】美国ITC正式对半导体光刻系统启动337调查

2018-10-11 11:40| 发布者: changyan| 查看: 107| 评论: 0

20181010日,美国国际贸易委员会(ITC)投票决定正式对部分半导体光刻系统及其同类组件(semiconductor lithography systems and components thereof)启动337调查(案件号337-TA-1137)。

2018912日,ASML Netherlands B.V.ASML US, L.P.ASML US, LLC向美国ITC提出申请,指控美国进口以及美国国内市场销售的部分半导体光刻系统及其同类组件侵犯了其专利权(美国注册专利号为729528374032649188880),申请启动337调查,并发布有限排除令和禁止令。

美国ITC最终确定将下列企业作为本案的指定应诉方:日本尼康公司(Nikon Corporation of Tokyo, Japan);尼康精密仪器有限公司(Nikon Precision Inc. of Belmont, CA);美国尼康研发公司(Nikon Research Corporation of America of Belmont, CA)。

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