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国家科技重大专项极紫外光刻胶项目通过验收

2018-6-4 13:14| 发布者: mmjyq| 查看: 945| 评论: 0


近日,国家科技重大专极大规模集成电路制造装备及成套工艺专项(以下简称02重大专项)实施管理办公室组织任务验收专家组、财务验收专家组对02重大专项极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究目进行了任务验收和财务验收。经过认真讨论,与会专家一致同意该项目通过验收。


极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项(02专项)项目极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究由中国科学院化学研究所、中国科学院理化技术研究所、北京科华微电子材料有限公司联合承担。经过项目组全体成员的努力攻关,完成了EUV光刻胶关键材料的设计、制备和合成工艺研究、配方组成和光刻胶制备、实验室光刻胶性能的初步评价装备的研发,达到了任务书中规定的材料和装备的考核指标。


项目共申请发明专利15项(包括国际专利5项),截止到目前,共获得授权专利10项(包括国际专利授权3项);培养了博士研究生9名,硕士研究生1名。与会专家指出,开展极紫外光刻胶的研发具有战略眼光,经过项目组成员几年的努力,圆满地完成了研发任务,达到了项目任务书中规定的指标;建立了一支在高档光刻胶领域的研发队伍,为我国的半导体集成电路产业的稳定发展提供了人才支持。


我国的高档电子化学品的研发正处于高速发展期,该项目的完成将对我国半导体产业的稳定发展提供重要保证,对高档光刻胶的研发给予持续的支持;发挥在特殊材料领域设计和制备的优势,为我国半导体工业的发展做出自己的贡献。

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